1000度井式真空气氛炉 此款真空气氛箱式炉为上开门,根据客户要求在**部增加一个观察孔,方便观察实验过程温度分类600℃~1800℃;可抽真空,通气氛;使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。
1000度井式真空气氛炉主要用途:适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
一、1000度井式真空气氛炉产品描述:
1.1 此款箱式炉以硅碳棒、硅钼棒或者电阻丝为加热元件;
1.2 采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制;
1.3 炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点;
1.4 具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等;
1.5 **部带有观察孔一个,开门方式为上开门。
二、1000度井式真空气氛炉产品特点:
2.1节能型的陶瓷纤维材料和双层结构,可将外表温度降到常温;
2.2均温区长,操作简便,密封可靠,综合性能指标较高,处于国内良好水平;
2.3可选择配置耐热钢、石英玻璃、刚玉陶瓷等材料炉管;
2.4选配:40段可编程控制器、可选择RS-485串口(另购)实现计算机通讯。
温度及炉膛尺寸均可根据客户需求进行定制!